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1 Produkte in Chemikalien

Halbleiterreinigung SC-1

Standard Clean 1 Lösung zur Entfernung von organischen Verunreinigungen und Partikeln von Siliziumwafern. Formulierung mit Ammoniumhydroxid und Wasserstoffperoxid, die den SEMI C8 und ITRS Spezifikationen entspricht. In verschiedenen NH4OH Konzentrationen erhältlich.